Messing etsen: Het algemene verzamel draadje

[Ad Bakker]

Het is al weer een tijdje geleden dat er hier wat geschreven is, dus ik veronderstel dat het nog steeds rustig is aan het etsfront.

Bij mij echter niet, en ik heb sinds de laatste ker behoorlijk wat plaatjes er doorheen gedraaid. Maar ik had pas een ervaring die ik hier toch even wil melden voor degenen die hier ooit aan willen beginnen.

Tot nu toe gebruikte ik altijd messing met positieve fotoresist, d.w.z. dat belichte delen (de transparante gebieden op je belichtingsmasker) worden wegontwikkeld en later ook weggeëtst. Nu had ik laatst een tweetal plaatjes waar iets onduidelijks mee was misgegaan. Die zijn naar de fabriek gestuurd, en in het antwoord (dat het opgelost zou worden) stond de vraag waarom ik eigenlijk geen negatief fotoresist gebruikte (belichte delen worden dan niet weg ontwikkeld, en worden dus juist niet weggeëtst), omdat dat door modelbouwers met succes wordt gebruikt. Nu was ik erg tevreden, behalve dat het printen van de transparante maskers inkt vreet. Bij positief materiaal wordt daardoor (in mijn toepassing met onderdelen met grote oppervlakten) het inktgebruik aanzienlijk verminderd.

Dus in mijn onschuld de eerstvolgende keer negatief materiaal aangeschaft, maar daar had ik me achteraf toch wat beter in moeten verdiepen.

In de eerste plaats is de golflengte van het licht waarbij dit materiaal maximale gevoeligheid heeft langer (negatief 400 nm, positief 450 nm). Nu ligt 450 nm al duidelijk in het zichtbare gedeelte van het lichtspectrum, en dat betekent dat het ook in zekere mate gevoelig is voor daglicht. Dus in de eerste plaats moet je als je ermee werkt blootstelling aan daglicht zo veel mogelijk vermijden, en lampen (bijv. TL) voorzien van een hoes die licht met kortere golflengten uitfiltert.

In de tweede plaats is de dikte van de fotoresist laag bij negatief materiaal aanzienlijk groter. Daardoor wordt het belangrijk dat de uv lichtbron zoveel mogelijk een parallelle lichtbundel moet geven, anders krijg je vooral probleem met dunnere lijnen die niet wegontwikkelen. Nu gebruik ik een zonnebank die er juist op gemaakt is om degene die erop ligt rondom te bruinen, dus is er van parallel licht geen sprake. Dit zou op te lossen zijn door alle lampen op 4 na (2 onder en 2 boven) uit te schakelen. Maar dat is in mijn geval een moeizame operatie.

Het bovenstaande wist ik nog niet, dus toen ik het nieuwe materiaal ging gebruiken lukte het van geen meter. Extreem korte belichtingstijden bleken nodig, en zelfs dan haalde ik nog geen resultaat dat maar in de verste verte kon tippen an mijn resultaten met positief fotoresist. Dit kwam pas boven tafel toen ik ging klagen, en mijn hele procedure uit de doeken had gedaan.

Het blijkt eigenlijk dat het materiaal fantastisch goed is (ik heb echt verbluffend mooie resultaten ervan gezien), maar dat het niet geschikt is voor mijn hobby setting. Met staart tussen de benen ben ik weer teruggevlucht naar positief fotoresist!!!!!

Bovenstaande betekent niet dat ik het gebruik van negatief fotoresist afraad, maar dat ik degene die voor de keuze staat sterk wil aanraden na te gaan of hij een werkomgeving heeft die geschikt is voor het gebruik ervan.

Dus ook hier geldt weer: "Learning all the time"

Deze ervaring wilde ik even met jullie delen.

Groet,

Ad Bakker

Hoi Ad,

Bedankt voor de update en delen van de ervaringen.

Ikzelf ben er nagenoeg nog niet aan toegekomen. Ik ben er al wel achter dat het aanbrengen van de fotoresist met de spuitbus van Positv een slecht plan is voor de beginner zoals ik. Ik krijg er nagenoeg geen goed resultaat mee met de proefjes die ik heb gedaan met het aanbrengen er van.

Volgende stap voor mij wordt eerst plaatjes aanschaffen met fotoresist erop en dan weer proberen.

De haast is er ook een beetje af daar ik voor mijn project waar ik het in eerste instantie voor zou gebruiken ben overgestapt op een ander systeem v.w.b. de bevestigingsplaatjes die ik zou gaan etsen.

Zodra ik ga beginnen laat ik het weten.

Gr. Teus